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钨坩埚厂家介绍溅射靶材的难点及市场空间

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钨坩埚厂家介绍溅射靶材的难点及市场空间

2019-05-22

    高纯溅射靶材是伴随着半导体工业的发展而兴起的,溅射靶材市场不仅仅在于电子行业,近年来砍溅射靶材的市场规模正在悄然发展,下面钨坩埚厂家带我们一起来了解一下溅射靶材的难点及市场空间。 

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      靶材的难点仅仅看纯度么?

  靶材性能影响镀膜质量,不同应用性能要求各有侧重,通常半导体靶材纯度高,平面显示靶材面积大对均匀性、焊接率要求高,而多元素靶材对原料成分和组织均匀性提出更高要求。靶材原料高纯金属和陶瓷粉位于靶材产业链的高附加值环节,主要依靠日美进口,而国内少数金属企业或靶材企业已开始突破铝、铜、钼等高纯金属原料和ITO 粉末等关键技术。


      溅射靶材市场空间真的很小么?

  半导体在靶材应用中约占10%;而显示、磁记录各占约30%,市场不容小觑。靶材需求随显示、半导体等市场需求增加,同时单个产品的用量也在提升。WSTS 统计16 年全球靶材市场113.6 亿美元,17-19 年复合增长率13%,则18 年全球市场约合人民币983 亿元。安泰科预计18 年全球金属钴和碳酸锂的消费量分别为12.5、28.8 万吨,假设18 年价格中枢分别为50、11 万/吨,则钴锂市场合计941 亿元,与靶材市场规模相当。

      溅射靶材的市场发展空间还是相当巨大的,只要了解了市场详情,就能把握住机遇。


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